2024年9月24日，由上海市科技創(chuàng)業(yè)中心組織的“2024上海高新技術(shù)成果轉(zhuǎn)化百佳表彰會(huì)”在上海大零號(hào)灣科創(chuàng)大廈會(huì)議中心隆重召開。此次表彰會(huì)議上，上海新陽(yáng)干法蝕刻清洗液項(xiàng)目榮獲“2024年上海市高新技術(shù)成果轉(zhuǎn)化項(xiàng)目自主創(chuàng)新十強(qiáng)”的榮譽(yù)稱號(hào)。
上海新陽(yáng)干法蝕刻清洗液項(xiàng)目于2009年立項(xiàng)，通過(guò)十多年自主研發(fā)，開發(fā)了針對(duì)晶圓鋁工藝和銅工藝干法刻蝕后殘余聚合物的清洗液，實(shí)現(xiàn)特定納米以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)集成電路制造銅工藝和鋁工藝的全覆蓋，一舉突破國(guó)外企業(yè)的技術(shù)封鎖，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)技術(shù)空白，完成了國(guó)產(chǎn)替代，為“卡脖子”關(guān)鍵工藝材料的持續(xù)創(chuàng)新注入了“新動(dòng)能”。
這份榮譽(yù)既是對(duì)上海新陽(yáng)干法蝕刻清洗液項(xiàng)目的肯定，也是對(duì)上海新陽(yáng)一直以來(lái)不斷創(chuàng)新、勇于突破精神的嘉獎(jiǎng)。上海新陽(yáng)將以此為激勵(lì)，持續(xù)開發(fā)新項(xiàng)目，攻克核心技術(shù)難關(guān)，為加速半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)國(guó)產(chǎn)替代的進(jìn)程而貢獻(xiàn)力量！
